گام مهم اینتل هم‌زمان با انتصاب مدیرعامل جدید؛ آغاز تولید آزمایشی ویفرهای ۱٫۸ نانومتری

در‌حالی‌که توجه رسانه‌ها به انتصاب مدیرعامل جدید اینتل معطوف شده بود، خبر مهم دیگری در دل این غول فناوری آبی‌پوش درحال اتفاق افتادن است. برای نخستین‌بار، خطوط تولید کارخانه‌های اینتل در ایالت آریزونا، شاهد تولید آزمایشی ویفرهای مبتنی‌بر فناوری 18A یا به‌عبارتی تراشه‌های کلاس ۱٫۸ نانومتری بوده‌اند. این اتفاق درحالی به‌وقوع پیوسته است که برخی از کارشناسان، آغاز بهره‌برداری این خطوط تولید را در اواسط سال ۲۰۲۵ میلادی پیش‌بینی می‌کردند.

کارخانه‌های ۵۲ و ۶۲ اینتل در آریزونا، به‌عنوان مراکز تولید انبوه شناخته می‌شوند و راه‌اندازی فناوری پیشرفته 18A در این تأسیسات، گامی حیاتی برای این شرکت به‌شمار می‌رود. پیش‌از این، فرآیندهای تولید مبتنی‌بر فناوری 18A عمدتاً در مرکز توسعه و تولید اینتل در نزدیکی اورگان، انجام می‌شد.

هرچند اینتل قابلیت تولید انبوه تراشه در اورگان را نیز دارا است، اما انتقال این فرآیند ساخت به یک کارخانه‌ی کاملاً جدید در آریزونا، نقطه عطف مهمی در راستای افزایش ظرفیت و تمرکززدایی از مراکز تولید این شرکت به‌شمار می‌رود. در‌حال‌حاضر، تمرکز اصلی بر تولید ویفرهای آزمایشی است تا از صحت و کارآمدی انتقال فرآیند تولید اطمینان حاصل شود و در نهایت، این کارخانه به تولید تراشه‌های تجاری برای محصولات نهایی خواهد پرداخت.

بر اساس برنامه‌ریزی‌های صورت‌گرفته، اینتل قصد دارد تا در اواخر سال جاری میلادی، تولید انبوه چیپلت‌های محاسباتی برای پردازنده‌های نسل بعدی خود با اسم رمز Panther Lake را با استفاده از فناوری 18A آغاز کند. در ادامه، این فناوری پیشرفته در تولید پردازنده‌های Xeon 7 با اسم رمز Clearwater Forest نیز به‌کار گرفته خواهد شد که به‌طور خاص برای استفاده در دیتاسنترها طراحی شده‌اند.

فناوری 18A به‌عنوان نسل جدید فرآیند ساخت تراشه در اینتل، امیدهای فراوانی را برای این شرکت به‌همراه آورده است. این فناوری متکی بر ترانزیستورهای RibbonFET با ساختاری موسوم‌به Gate All Around است که وعده‌ی افزایش عملکرد و کاهش مصرف انرژی را می‌دهد. علاوه‌بر این، فناوری مورد بحث از سیستم تغذیه Backside Power Delivery نیز بهره می‌برد که هدف آن اطمینان از تأمین پایدار انرژی برای پردازنده‌های پرمصرف و همچنین افزایش چگالی ترانزیستورها از طریق جداسازی سیم‌های سیگنال و تغذیه در داخل تراشه است.

دستاورد جدید اینتل در تولید آزمایشی ویفرهای ۱٫۸ نانومتری، حاصل تلاش، نوآوری و تعهد بی‌وقفه‌ی تیم‌های مهندسی این شرکت محسوب می‌شود. این اتفاق نه‌تنها می‌تواند موقعیت اینتل را در بازار رقابتی نیمه‌رساناها تقویت کند، بلکه نشان‌دهنده‌ی پیشرفت در تولید فناوری‌های پیشرفته در داخل آمریکا به‌شمار می‌رود. این فناوری به‌عنوان کوچک‌ترین گره تولیدی در جهان توصیف شده و انتظار می‌رود نقش بسزایی در توسعه نسل‌های بعدی محصولات الکترونیکی ایفا کند.